金属硅的制作工艺是怎样的?

                                      发布者: 发布时间:2015/6/25 14:28:44 阅读:次 【字体:

                                       硅在地壳中分布很广,约占地壳总量的四分之一。硅的用途很广泛,日常生活中离不开它,现代高科技尖端领域也离不开它,将来科学技术不断发展,金属硅的用途价值就更加显得神通广大,如将粗硅提炼出高纯度的单晶硅是等量黄金价格的数倍,金属硅的用处与经济性是可想而知的。那么金属硅的制作工艺是怎样的?

                                      金属硅的制作工艺

                                      金属硅的制作工艺是怎样的?以硅块为原料生产成品硅粉,金属硅的制作工艺有多种方法。效果较好,应用较多的是:球磨法、辊磨法、冲旋法,其主要设备:球磨机、辊磨机、冲旋机在制粉中对达到质量技术要求是有区别的。前两种是在重力下挤压辗磨粉碎,后一种是冲击细碎。各种磨机对非易燃易爆,莫氏硬度低于7.0级的矿物均可加工粉碎。成品粒度通过工艺调节,控制在30目(0.613mm)至425目(0.033mm)范围内。

                                      掺杂碳的二氧化硅膜的沉积方法:首先,提供一基底并将其置于一CVD腔室中,接着,通入氧气、氩气与三硅烷至该腔室,其流量比大体为1∶1.5∶6,且腔室温度大体介于300-400℃,形成此低介电常数介电层的沉积速率比过程中不通入氩气要快,且在氧气等离子体存在下介电常数大体为3的介电层其介电常数值仅会有些许增加。此外,可形成具有较高密度、硬度与张力强度的黑钻石层,并可使膜厚均一度在长时间内维持在2%以下,以降低清除微粒的操作次数并提供较低的氟碳等离子体蚀刻速率,改善镶嵌工艺中沟槽深度的控制能力,使形成的内连线具有较低漏电流与较高崩溃电压的特性。

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